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德國OWIS系統導軌反射差 黑色陽極氧化 公司簡介： 這就是OWIS所代表的。我們廣泛的光束處理系統、光機械組件以及手動和電動定位器產品組合為您提供模塊化系統，以實現您在光子學中的應用或實驗室設置。 這也適用于真空應用。OVIS真空系列專為高真空（HV）、超高真空（UHV）和真空（XHV）而設計。在 XHV 中，壓力范圍為 10-11MBAR
更新時間：2025-03-29
型號：S 25 LL
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